| 回收罐容量 | 1 |
|---|---|
| 检测试管容量 | 1 |
| 流量 | 1 |
| 马达功率 | 1 |
| 泡沫液油箱容量 | 1 |
| 吸气口噪声 | 1 |
| 压力 | 1 |
金属镀层的纸板处理等离子清洗机
PL—DW30等离子清洗机是为了提高产品品质，解决行业技术难题，提高清洁环保而研发的，目前等离子清洗机已广泛应用到工业，为工业发展提供了更加卓越的高科技产品！
目前真空等离子清洗机一般应用在粘接，印刷前材料处理，实验室项目研究等。我公司生产的等离子清洗机目前已供货给200多所大学高校，现在我们致力于开发更好的产品来满足学术，项目研究。同时希望和等离子清洗机行业的各位精英共同学习，进步；PL—DW30为用户带来性价比更高的等离子清洗设备。
等离子清洗机，对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。改变某些材料表面的性能。使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。清除金属材料表面的氧化层。对被清洗物进行消毒、杀菌。
优点：
具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。
对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。
完全彻底地清除样品表面的有机污染物。
定时处理、快速处理、清洗效率高。
绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。
等离子清洗机参数：
型号 | PL—DW30 |
频率 | 40KHZ-13.56KHZ（常用40KHZ) |
功率 | 500W |
舱体尺寸（内置） | 300*300*335 |
电源 | 220-380V |
容量 | 30 升 |
处理过程 | 分手动与自动控制 |
舱体 | 不锈钢 |
舱门 | 铝合金 |
立式 宽度高度深度 | 600mm（19”）*1800mm*800mm |
台式 宽度高度深度 | 600mm（19”）*800mm *650mm |
外形尺寸可根据用户需要进行生产加工。
应用领域：
光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件**、天然晶体和宝石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
高分子材料表面的修饰。
封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。
牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。
医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌。
